イオンちゅうにゅう【イオン注入】

〔ion implantation〕半導体に不純物を添加する方法の一。不純物をイオン化してビームにし，電気的に制御しながら目的の半導体に注入するので，正確に添加量やその分布を変えることができる。現在のIC生産技術の中核の一。离子注入。在半导体中添加杂质的方法之一。由于将杂质离子化成电子束并一边控制电流一边注入目标半导体中，所以能准确地改变添加量及其分布。现在IC生产技术中的核心方法之一。

单词	イオンちゅうにゅう【イオン注入】
释义	イオンちゅうにゅう【イオン注入】〔ion implantation〕半導体に不純物を添加する方法の一。不純物をイオン化してビームにし，電気的に制御しながら目的の半導体に注入するので，正確に添加量やその分布を変えることができる。現在のIC生産技術の中核の一。离子注入。在半导体中添加杂质的方法之一。由于将杂质离子化成电子束并一边控制电流一边注入目标半导体中，所以能准确地改变添加量及其分布。现在IC生产技术中的核心方法之一。
随便看	まんにんこうまんにんこう【万人坑】まんねんまんねん【万年】まんねんぐさまんねんぐさ【万年草】まんねんごよみまんねんごよみ【万年暦】まんねんすぎまんねんすぎ【万年杉】まんねんせいまんねんせい【万年青】まんねんたけまんねんたけ【万年葺】まんねんどこまんねんどこ【万年床】まんねんひつまんねんひつ【万年筆】まんねんゆきまんねんゆき【万年雪】まんねんれいまんねんれい【満年齢】まんのうまんのう【万能】まんのういけ