スパッタリング【sputtering】

薄膜を形成するための技術の一。金属などに不活性ガスを吹きつけ，それにより弾き出された分子を目的物の表面につける。均一で高品質の膜が形成され，半導体製造過程などで用いられる。溅镀，溅射。形成薄膜用的技术之一，向金属等喷射惰性气体，使由其所弹出的分子附着在目标物表面。形成均匀且高品质的膜，用于半导体制造过程等。

单词	スパッタリング【sputtering】
释义	スパッタリング【sputtering】薄膜を形成するための技術の一。金属などに不活性ガスを吹きつけ，それにより弾き出された分子を目的物の表面につける。均一で高品質の膜が形成され，半導体製造過程などで用いられる。溅镀，溅射。形成薄膜用的技术之一，向金属等喷射惰性气体，使由其所弹出的分子附着在目标物表面。形成均匀且高品质的膜，用于半导体制造过程等。
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