フォトレジスト【photoresist】

薄膜にして光を照射すると，耐薬品性の大きな硬質膜になったり，逆に薬品に溶けやすくなったりする材料。感光性樹脂など。プリント配線基板，IC，LSIの製造，印刷版の作製などに利用。光致抗蚀剂，光刻胶。制成薄膜经光照射后，或成为耐药性强的硬质膜，或相反变成易溶于药剂的一种材料。如感光性树脂等。用于印刷电路板、IC、LSI的制造以及印刷版的制作等。

单词	フォトレジスト【photoresist】
释义	フォトレジスト【photoresist】薄膜にして光を照射すると，耐薬品性の大きな硬質膜になったり，逆に薬品に溶けやすくなったりする材料。感光性樹脂など。プリント配線基板，IC，LSIの製造，印刷版の作製などに利用。光致抗蚀剂，光刻胶。制成薄膜经光照射后，或成为耐药性强的硬质膜，或相反变成易溶于药剂的一种材料。如感光性树脂等。用于印刷电路板、IC、LSI的制造以及印刷版的制作等。
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