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ぶつりきそうせいちょうほう【物理気相成長法】
释义
ぶつりきそう
‐
せいちょうほう
【物理気相成長法】
〔ブツリキサウセイチヤウハフ〕
原料をプラズマやレーザーで加熱して蒸発させ、対象とする基板や金属の表面に、物理的に薄膜を蒸着させる方法。分子線エピタキシー、スパッタリング、イオンプレーティングなどの手法があり、半導体素子の製造、工具や金型の表面処理に利用される。物理蒸着法。PVD(physical vapor deposition)。
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更新时间:2025/8/8 16:17:58